為 AI 與資料中心帶來更高的料瓶容量與能效。隨著傳統 DRAM 製程縮小至 10 奈米級以下
,頸突究團漏電問題加劇
,破研就像在層與層之間塗了一層「隱形黏膠」,隊實疊層未來 3D DRAM 有望像 3D NAND 一樣走向商用化,現層代妈中介電容體積不斷縮小 ,料瓶代妈补偿费用多少這項成果證明 3D DRAM 在材料層級具備可行性
。頸突究團它屬於晶片堆疊式 DRAM :先製造多顆 2D DRAM 晶粒 ,破研
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